关于FTO导电玻璃的概念，前期我们曾专门写过，这里不再重复。在一些实现项目上，一般需要对FTO玻璃进行刻蚀，使其导电作用更加地可控、高效。那么，常见的FTO玻璃刻蚀方法有哪些呢？
一般般来说，市面上常见的FTO玻璃刻蚀方法有两种：激光刻蚀和化学刻蚀。
一、激光刻蚀
顾名思义，激光刻蚀工艺指的就是用高能量的激光照在FTO玻璃表面，用很短的时间（纳秒级别）汽化FTO膜，进而形成一条线槽。并在保证线槽干净、无毛刺、无残留的前提下，不伤及基材玻璃或PET薄膜。这样，就能够实现线槽两边刻断，不具备导通性。用这种方式进行数控化操作，就可以刻蚀出一整面的“线路板”，进而满足应用和科研需求。
现阶段，导电玻璃激光刻蚀机的精度已经做的非常高了，可以精确到10微米、甚至更低，这使得激光刻蚀工艺得到更为广泛的应用。
二、化学刻蚀
这种FTO刻蚀的工作原理，就是利用化学试剂来腐蚀基材上的FTO材料。比较常见的钙钛矿电池，就更多地采用盐酸等材料进行化学蚀刻。
三、激光刻蚀和化学蚀刻的优缺点对比
既然有多种刻蚀方式，那么它们之间就一定存在差异和特点。
1、成本方面：化学蚀刻远低于激光刻蚀；
2、批量生产效率方面：化学刻蚀效率高于激光刻蚀；
3、环保方面：激光刻蚀更加环保、损耗更小、保真性更强；
4、精度方面：激光刻蚀可控性更强，精度更高，良品率也更高，尤其适合实验室阶段使用；
5、性能方面：化学刻蚀比较容易出现FTO残留，使得导电性不稳定；
6、可控性方面：激光刻蚀不受图形限制（可任意绘制或导入图形），并且更加精确、先款更窄，间距更小，操作更简便。
综合来看，无论是出于效率还是性能，还是可控性方面来考虑，激光刻蚀都是具有明显优势的。而它蕞为明显的劣势就是成本比较高。可以看到，在触摸屏、光伏、电致色玻璃等领域，更多地都在采用激光刻蚀工艺来刻蚀FTO材料。
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